氮氣烤箱,充氮潔凈烤箱用于IC封裝,LCD,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板、高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
氮氣烤箱,充氮潔凈烤箱概述:
充氮潔凈烤箱在工作時,工作室內充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途:IC包裝,LCD,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板……
氮氣烤箱,充氮潔凈烤箱技術參數
1.名稱及型號:氮氣烤箱
2.氮氣烤箱主要技術指標:
2.1含氧量:<500/100/50ppm;
2.2溫度范圍:RT(室溫)+10~200/300℃;
2.3溫度均勻度:±1℃;(空載)
2.4溫度波動度:±0.5℃(空載)
2.5溫控精度:0.1℃;
2.6烘箱擱板為活動形式。
2.7工作尺寸:自定義
2.8烤箱裝有進氮氣孔,配有玻璃流量轉子器
結構:
烤箱由箱體部分、電器控制柜部分、電加熱及風道系統部分組裝而成,結構合理,外觀美觀大方;
無塵無氧烤箱,PI無塵固化烤箱
無塵無氧烤箱,PI無塵固化烤箱概述
應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業.
二.無塵無氧烤箱,PI無塵固化烤箱技術參數
1.主要技術指標
Ø 材質:外箱采用優質不銹鋼,內箱采用SUS304不銹鋼
Ø 溫度范圍:RT+10-200、400℃
Ø 溫度分辨率:0.1℃
Ø 溫度波動度:<±1℃
Ø 溫度均勻度:≤±2%
Ø 潔凈度:class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環境
Ø 氧含量
高溫狀態氧含量:≤ 20ppm +氣源氧含量
低溫狀態氧含量:≤ 50ppm +氣源氧含量
Ø 數據輸出:溫度和氧含量無紙記錄儀
2.系統結構
Ø 熱風循環系統:采用覆套式電熱器)無塵無氧化電熱發生器
Ø 氣體系統:HEPA過濾效果可達99.99%,Class100箱體內裝有氧含量分析儀
Ø 水冷系統:翅片式水冷散熱器,冷卻水通過散熱器快速帶走更多的熱量,使得箱內溫度快速下降
Ø 溫控系統:采用中能溫度控制器,內置斜率設定、PID自整定
Ø 軟件系統:控制系統采用高速型邏輯控制器,可與現場總線聯機遠程操控
3. 安全保護性能
1)短路保護
2)漏電保護
3)超溫保護,獨立感溫式超溫保護器
4)電機保護,電機過電流、水冷保護
5)電磁門禁保護,當溫度超過100℃,電子鎖自動鎖緊,防止高溫開門