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HMDS烤箱,HMDS真空烘箱的由來

更新時(shí)間:2022-05-27   點(diǎn)擊次數(shù):1464次

HMDS烤箱,HMDS真空烘箱的由來

半導(dǎo)體工藝中需要在各種襯底上進(jìn)行光刻膠涂布,黏附性是否良好是最大的問題。黏附差導(dǎo)致嚴(yán)重的側(cè)面腐蝕,線條變寬,甚至有可能導(dǎo)致圖形全部消失,濕法刻蝕技術(shù)要求光刻膠與下面的襯底有很好的黏附性。

提高光刻膠與襯底之間的黏附力有多個(gè)步驟:

a、涂膠前進(jìn)行脫水堅(jiān)膜;

b、使用黏附促進(jìn)劑,即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布;

c、高溫后烘。

完成以上工藝僅用我司生產(chǎn)的HMDS真空烘箱即可。

HMDS烤箱,HMDS真空烘箱

溫度范圍:RT+10-250℃

真空度:≤133pa(1torr)

控制儀表:人機(jī)界面,一鍵運(yùn)行

儲(chǔ)液瓶:HMDS儲(chǔ)液量1000ml 

真空泵:無油渦旋真空泵

       HMDS真空烘箱也稱為智能型HMDS真空系統(tǒng) 將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。


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